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Growth of SiO2 films by TEOS-PECVD system for microelectronics applications
Veröffentlicht in Surface & coatings technology
VolltextArtikel -
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Deep Exclusive Electroproduction of π0 at High Q2 in the Quark Valence Regime
Veröffentlicht in Physical review letters
VolltextArtikel -
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Growth and characterization of SiON thin films by using thermal-CVD machine
Veröffentlicht in Optical materials
VolltextArtikel -
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