-
1
-
2
-
3
-
4
-
5
-
6
-
7
-
8
-
9
Growth of SiO2 films by TEOS-PECVD system for microelectronics applications
Veröffentlicht in Surface & coatings technology
VolltextArtikel -
10
-
11
-
12
TEOS-PECVD system for high growth rate deposition of SiO 2 films
Veröffentlicht in Vacuum
VolltextArtikel -
13
-
14
TEOS-PECVD system for high growth rate deposition of SiO2 films
Veröffentlicht in Vacuum
VolltextArtikel -
15
-
16
-
17
-
18
Deep Exclusive Electroproduction of π0 at High Q2 in the Quark Valence Regime
Veröffentlicht in Physical review letters
VolltextArtikel -
19
-
20