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In situ nanoscale refinement by highly controllable etching of the (111) silicon crystal plane and its influence on the enhanced electrical property of a silicon nanowire
von
Gong, Yibin (宜彬龚)
,
Dai, Pengfei (鹏飞戴)
,
Gao, Anran (安然高)
,
Li, Tie (铁李)
,
Zhou, Ping (萍周)
,
Wang, Yuelin (跃林王)
Veröffentlicht in
Journal of semiconductors
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