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    Technology and optimization of hafnium oxynitride (HfOxNy) thin-films formed by pulsed-DC reactive magnetron sputtering for MIS devices

    Technology and optimization of hafnium oxynitride (HfOxNy) thin-films formed by pulsed-DC reactive magnetron sputtering for MIS devices von Puźniak, Mirosław, Gajewski, Wojtek, Żelechowski, Marcin, Jamroz, Jan, Gertych, Arkadiusz, Zdrojek, Mariusz, Mroczyński, Robert

    Veröffentlicht in Microelectronic engineering

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