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    Resistivity of phosphorus-doped sputter-deposited polycrystalline silicon films

    Resistivity of phosphorus-doped sputter-deposited polycrystalline silicon films von Gabilli, Edgardo, Guerri, Sergio, Masetti, Guido, Severi, Maurizio

    Veröffentlicht in Solid-state electronics

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    PROCEDIMENTO PER LA REALIZZAZIONE DI UNA BARRIERA DI DIFFUSIONE PER DISPOSITIVI ELETTRONICI A STATO SOLIDO

    PROCEDIMENTO PER LA REALIZZAZIONE DI UNA BARRIERA DI DIFFUSIONE PER DISPOSITIVI ELETTRONICI A STATO SOLIDO von LOTTI RICCARDO, FINETTI MANUALE, ARMIGLIATO ALDO, GUERRI SERGIO, OSTOJA PAOLO, GABILLI EDGARDO

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    PROCEDIMENTO PER LA REALIZZAZIONE DI UNA BARRIERA DI DIFFUSIONE PER DISPOSITIVI ELETTRONICI A STATO SOLIDO

    PROCEDIMENTO PER LA REALIZZAZIONE DI UNA BARRIERA DI DIFFUSIONE PER DISPOSITIVI ELETTRONICI A STATO SOLIDO von RICCARDO LOTTI, EDGARDO GABILLI, SERGIO GUERRI, PAOLO OSTOJA, ALDO ARMIGLIATO, MANUALE FINETTI

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