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Bipolar resistive switching in polycrystalline TiO2 films
Veröffentlicht in Applied physics letters
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Point defects and dopant diffusion in silicon
Veröffentlicht in Reviews of modern physics
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Boron uphill diffusion during ultrashallow junction formation
Veröffentlicht in Applied physics letters
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Thermal stability of dopants in laser annealed silicon
Veröffentlicht in Journal of applied physics
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Double-well model of dielectric relaxation current
Veröffentlicht in Applied physics letters
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