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Analysis of Ge segregation in Si using a simultaneous growth and exchange model
Veröffentlicht in Surface science
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STRESS AND ITS EFFECT ON THE INTERDIFFUSION IN SI1-XGEX/SI SUPERLATTICES
Veröffentlicht in Applied physics letters
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Single-crystal germanium grown on (1102) sapphire by molecular beam epitaxy
Veröffentlicht in Applied physics letters
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GE PROFILE FROM THE GROWTH OF SIGE BURIED LAYERS BY MOLECULAR-BEAM EPITAXY
Veröffentlicht in Applied physics letters
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Copper diffusion in organic polymer resists and inter-level dielectrics
Veröffentlicht in Thin solid films
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Distribution of Ge in O+ implanted silicon
Veröffentlicht in Applied physics letters
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Stress and its effect on the interdiffusion in Si(1-x)Ge(x)/Si superlattices
Veröffentlicht in Applied physics letters
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Selective Removal of Si1 − x Ge x from (100) Si Using HNO 3 and HF
Veröffentlicht in Journal of the Electrochemical Society
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DISTRIBUTION OF GE IN 0+ IMPLANTED SILICON
Veröffentlicht in Applied physics letters
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Observation of a Trivalent Ge Defect in Oxygen Implanted SiGe Alloys
Veröffentlicht in Materials science forum
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