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Direct pattern transfer for sub-45 nm features using nanoimprint lithography
Veröffentlicht in Microelectronic engineering
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Selective dry etch process for step and flash imprint lithography
Veröffentlicht in Microelectronic engineering
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Direct pattern transfer for sub-45nm features using nanoimprint lithography
Veröffentlicht in Microelectronic engineering
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Distortion and overlay performance of UV step and repeat imprint lithography
Veröffentlicht in Microelectronic engineering
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Three Dimensional Micro Fuel Cells for Portable Applications
Veröffentlicht in Meeting abstracts (Electrochemical Society)
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