Suchergebnisse - GEHA SAM

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Electrostatic trapping of contamination particles in a process plasma environment von Carlile, Robert N., Geha, Sam, O’Hanlon, John F., Stewart, John C.

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Physical properties of contamination particle traps in a process plasma von CARLILE, R. N, GEHA, S. S

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THE DEPENDENCE OF CONTAMINATION PARTICLE TRAPS ON WAFER MATERIAL AND TOPOGRAPHY von GEHA, SG, CARLILE, RN, OHANLON, JF, SELWYN, GS

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Oxide-Nitride-Oxide Stack Having Multiple Oxynitride Layers von Ramkumar, Krishnaswamy, Geha, Sam G, Jenne, Fredrick, Levy, Sagy Charel

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Magnetic tunnel junction pattern technique von Chen, Eugene, Schwarz, Benjamin, Choi, Chang Ju, Kula, Witold, Wolfman, Jerome, Ounadjela, Kamel, Geha, Sam

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OXIDE-NITRIDE-OXIDE STACK HAVING MULTIPLE OXYNITRIDE LAYERS von Ramkumar, Krishnaswamy, Geha, Sam G, Jenne, Fredrick, Levy, Sagy Charel

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