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1.2 kV Enhancement-Mode p-GaN Gate HEMTs on 200 mm Engineered Substrates
Veröffentlicht in IEEE electron device letters
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Study and characterization of GaN MOS capacitors: Planar vs trench topographies
Veröffentlicht in Applied physics letters
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CMOS Process-Compatible High-Power Low-Leakage AlGaN/GaN MISHEMT on Silicon
Veröffentlicht in IEEE electron device letters
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Vertical GaN devices: Process and reliability
Veröffentlicht in Microelectronics and reliability
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Exploration of gate trench module for vertical GaN devices
Veröffentlicht in Microelectronics and reliability
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Impact of Doping and Geometry on Breakdown Voltage of Semi-Vertical GaN-on-Si MOS Capacitors
Veröffentlicht in arXiv.org
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Study and characterization of GaN MOS capacitors: planar versus trench topographies
Veröffentlicht in arXiv.org
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Epidemiology of major depression in Belgian parkinsonian patients
Veröffentlicht in Acta neurologica Belgica
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