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Role of Ti and W in the Ni-based ohmic contacts to n-type 4H-SiC
Veröffentlicht in Journal of crystal growth
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Investigation of Ni/Al/Ti Ohmic Contact on N-Type 4H-SiC
Veröffentlicht in Materials science forum
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Reaction Kinetics Investigation of Ni Ohmic Contacts on N-Type 4H-SiC
Veröffentlicht in Key engineering materials
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Factors Affecting Bias Temperature Instability in 4H-SiC MOS Capacitors
Veröffentlicht in Key engineering materials
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