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Effects of annealing on X-ray-amorphous CVD W-Si-N barrier layer materials
Veröffentlicht in Thin solid films
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W/WNx as a low-resistance gate material and local interconnect
Veröffentlicht in Microelectronic engineering
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Dichlorosilane effects on low-temperature selective silicon epitaxy
Veröffentlicht in Applied physics letters
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