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Very Smooth SiO2/SiC Interface Formed by Supercritical Water Oxidation at Low Temperature
Veröffentlicht in Jpn J Appl Phys
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Behavior of ultrafine metallic particles on silicon wafer surface
Veröffentlicht in Journal of the Electrochemical Society
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Critical Cleaning by Functional Water in the Semiconductor/FPD Manufacturing Process
Veröffentlicht in Hyōmen gijutsu
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Low-temperature oxidation of SiC surfaces by supercritical water oxidation
Veröffentlicht in Applied surface science
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PFC recycling system by continuous gas chromatography
Veröffentlicht in IEEE transactions on semiconductor manufacturing
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