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Electron-beam lithography for small MOSFET's
Veröffentlicht in IEEE transactions on electron devices
VolltextArtikel -
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All-solid-state camera for the 525-line television format
Veröffentlicht in IEEE transactions on electron devices
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MOS Compatibility of High-Conductivity TaSi/sub 2//n+ Poly-Si Gates
Veröffentlicht in IEEE journal of solid-state circuits
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MOS Compatibility of high-conductivity TaSi 2 /n + poly-Si gates
Veröffentlicht in IEEE transactions on electron devices
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MOS Compatibility of high-conductivity TaSi2/n+poly-Si gates
Veröffentlicht in IEEE transactions on electron devices
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All-solid-state camera for the 525-line television format
Veröffentlicht in IEEE journal of solid-state circuits
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A 16-kbit Block Addressed Charge-Coupled Memory Device
Veröffentlicht in IEEE journal of solid-state circuits
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A 16-kbit block addressed charge-coupled memory device
Veröffentlicht in IEEE transactions on electron devices
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