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Etch damage characteristics of TiO2 thin films by capacitively coupled RF Ar plasmas
Veröffentlicht in Vacuum
VolltextArtikel -
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Effect of Dielectric Barrier Discharge Air Plasma Treatment on TiO2 Thin Film Surfaces
Veröffentlicht in Jpn J Appl Phys
VolltextArtikel -
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Etch damage characteristics of TiO sub(2) thin films by capacitively coupled RF Ar plasmas
Veröffentlicht in Vacuum
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Etch damage characteristics of TiO 2 thin films by capacitively coupled RF Ar plasmas
Veröffentlicht in Vacuum
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