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Intrinsic Problem Affecting Contact Hole Resolution in Hyper NA Era
Veröffentlicht in Japanese Journal of Applied Physics
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Mask Error Factor in Proximity X-Ray Lithography
Veröffentlicht in Japanese Journal of Applied Physics
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Optimum Phase Condition for Low-Contrast X-Ray Masks
Veröffentlicht in Japanese Journal of Applied Physics
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A New Monocyclic Fluoropolymer for 157-nm Photoresists
Veröffentlicht in Journal of Photopolymer Science and Technology
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