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Stress analyses of GaN film manufactured by ECR plasma-enhanced chemical vapor deposition
Veröffentlicht in Vacuum
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Characterizations of GaN film growth by ECR plasma chemical vapor deposition
Veröffentlicht in Journal of crystal growth
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Spatial Distribution of ECR Plasma Density in ECR-PECVD Reaction Chamber
Veröffentlicht in Plasma science & technology
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Ion Density Distribution in an Inductively Coupled Plasma Chamber
Veröffentlicht in Plasma science & technology
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