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Nonlinear spectroscopy of 1S-excitons in CuCl under uniaxial stress von Fro¨hlich, D., Nieswand, W., Ru¨benacke, St

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Feuilles d'e te von Fro hlich, Walter

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Thermal stability of advanced gate stacks consisting of a Ru electrode and Hf-based gate dielectrics for CMOS technology von Machajdík, D., Kobzev, A.P., Hušeková, K., Ťapajna, M., Fro˝hlich, K., Schram, T.

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