Suchergebnisse - Finders, Jo

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SEMI-CenterNet : a machine learning facilitated approach for semiconductor defect inspection von De Ridder, Vic, Dey, Bappaditya, Dehaerne, Enrique, Halder, Sandip, De Gendt, Stefan, Van Waeyenberge, Bartel

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Wafer level critical dimension control in spacer-defined double patterning for sub-72 nm pitch logic technology von Kim, Ryoung-han, Watso, Robert, van Dommelen, Youri, Finders, Jo, Colburn, Matthew E., Levinson, Harry J.

Veröffentlicht in Journal of vacuum science & technology. B, Microelectronics and nanometer structures processing, measurement and phenomena

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Progress in Extending Immersion Lithography for the 32 nm Node and Beyond von Sewell, Harry, Chen, Alek, Finders, Jo, Dusa, Mircea

Veröffentlicht in Japanese Journal of Applied Physics

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Proximity Effects Correction for Advanced Optical Lithography Processes von Tritchkov, Alexander, Finders, Jo, Randall, John, Ronse, Kurt, Vandenhove, Luc

Veröffentlicht in Japanese Journal of Applied Physics

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Manufacturing Challenges in Double Patterning Lithography von Arnold, W., Dusa, M., Finders, J.

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Illumination optimization of periodic patterns for maximum process window von Socha, Robert, Eurlings, Mark, Nowak, Frank, Finders, Jo

Veröffentlicht in Microelectronic engineering

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Imaging characteristics and specification of mask mean-to-target and mask uniformity according to polarization status von Lee, Sung-Woo, Finders, Jo, Lee, Suk-Joo, Woo, Sang-Gyun, Cho, Han-Ku

Veröffentlicht in Journal of Vacuum Science & Technology B: Microelectronics and Nanometer Structures

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Wafer level critical dimension control in spacer-defined double patterning for sub-72 nm pitch logic technologya von Kim, Ryoung-han, Watso, Robert, van Dommelen, Youri, Finders, Jo, Colburn, Matthew E., Levinson, Harry J.

Veröffentlicht in Journal of vacuum science & technology. B, Microelectronics and nanometer structures processing, measurement and phenomena

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A method for evaluating von Dusa, Mircea, Praagh, Judith van, Finders, Jo, Ridley, Andrew

Veröffentlicht in Solid state technology

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Optimizing i-line lithography for 0.3 micron poly-gate manufacturing von Finders, Jo, Tzviatkov, Plamen, Ronse, Kurt, Van den hove, Luc

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Optimizing i-line lithography for 0.3-μm poly-gate manufacturing von FINDERS, J, TZYIATKOV, P, RONSE, K, VAN DEN HOVE, L

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Lithographic method and arrangement for manufacturing a spacer von NIKOLSKY PIOTER, GROENENDIJK REMCO JO SEBASTIAAN, FINDERS JOZEF MARIA

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LITHOGRAPHIC METHOD AND LITHOGRAPHIC APPARATUS von GROENENDIJK REMCO JO SEBASTIAAN, FINDERS JOZEF MARIA, NIKOLSKI PIOTER

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LITHOGRAPHIC METHOD AND ARRANGEMENT von GROENENDIJK REMCO JO SEBASTIAAN, FINDERS JOZEF MARIA, NIKOLSKI PIOTER

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TV news, 6:30 pm. BABY BOOM

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Lithographic method and arrangement von NIKOLSKY, PETER, FINDERS, JOZEF MARIA, GROENENDIJK, REMCO JO SEBASTIAAN

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Lithographic method and arrangement von GROENENDIJK REMCO JO SEBASTIAAN, FINDERS JOZEF MARIA, NIKOLSKY PETER

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Lithographic method and arrangement von NIKOLSKY, PETER, FINDERS, JOZEF MARIA, GROENENDIJK, REMCO JO SEBASTIAAN

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Progress in Extending Immersion Lithography for the 32 nm Node and Beyond von Sewell, Harry, Chen, Alek, Finders, Jo, Dusa, Mircea

Proximity Effects Correction for Advanced Optical Lithography Processes von Tritchkov, Alexander, Finders, Jo, Randall, John, Ronse, Kurt, Vandenhove, Luc

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Optimizing i-line lithography for 0.3 micron poly-gate manufacturing von Finders, Jo, Tzviatkov, Plamen, Ronse, Kurt, Van den hove, Luc

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Lithographic method and arrangement for manufacturing a spacer von NIKOLSKY PIOTER, GROENENDIJK REMCO JO SEBASTIAAN, FINDERS JOZEF MARIA

LITHOGRAPHIC METHOD AND LITHOGRAPHIC APPARATUS von GROENENDIJK REMCO JO SEBASTIAAN, FINDERS JOZEF MARIA, NIKOLSKI PIOTER

LITHOGRAPHIC METHOD AND ARRANGEMENT von GROENENDIJK REMCO JO SEBASTIAAN, FINDERS JOZEF MARIA, NIKOLSKI PIOTER

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