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Light emission from silicon: Some perspectives and applications
Veröffentlicht in Journal of electronic materials
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Recent developments in rapid thermal processing
Veröffentlicht in Journal of electronic materials
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Rapid thermal processing for silicon nanoelectronics applications
Veröffentlicht in JOM (1989)
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Electrical activation kinetics for shallow boron implants in silicon
Veröffentlicht in Applied physics letters
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Boron-enhanced diffusion of boron from ultralow-energy ion implantation
Veröffentlicht in Applied physics letters
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The magnetic field-assisted assembly of nanoscale semiconductor devices: A new technique
Veröffentlicht in JOM (1989)
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Activation and deactivation of implanted B in Si
Veröffentlicht in Applied physics letters
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Preparation and substrate reactions of superconducting Y-Ba-Cu-O films
Veröffentlicht in Applied physics letters
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Thin SiO2 films grown for brief oxidation times
Veröffentlicht in Journal of electronic materials
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Electrical and compositional properties of TaSi2 films
Veröffentlicht in Journal of electronic materials
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Fluxon pinning in the nodeless pairing state of superconducting YBa2Cu3O7
Veröffentlicht in Journal of electronic materials
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Anisotropic critical current density in superconducting Bi2Sr2CaCu2O8 crystals
Veröffentlicht in Applied physics letters
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Thermal activation of shallow boron-ion implants
Veröffentlicht in Journal of electronic materials
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Spike annealing of boron-implanted polycrystalline-silicon on thin SiO2
Veröffentlicht in Applied physics letters
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