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Effect of rapid thermal annealing on the mechanical stress and physico-chemical properties in plasma enhanced atomic layer deposited silicon nitride thin films
von
Peter, Antony Premkumar
,
Marquez, Alfonso Sepulveda
,
Meersschaut, Johan
,
Dara, Praveen
,
Blanquart, Timothee
,
Tomomi, Takayama
,
Taishi, Ebisudani
,
Elichiro, Shiba
,
Kimura, Yosuke
,
van Gompel, Sander
,
Morin, Pierre
Veröffentlicht in
JOURNAL OF VACUUM SCIENCE & TECHNOLOGY B
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Effect of rapid thermal annealing on the mechanical stress and physico-chemical properties in plasma enhanced atomic layer deposited silicon nitride thin films
von
Peter, Antony Premkumar
,
Sepulveda Marquez, Alfonso
,
Meersschaut, Johan
,
Dara, Praveen
,
Blanquart, Timothee
,
Tomomi, Takayama
,
Taishi, Ebisudani
,
Elichiro, Shiba
,
Kimura, Yosuke
,
Gompel, Sander van
,
Morin, Pierre
Veröffentlicht in
Journal of vacuum science and technology. B, Nanotechnology & microelectronics
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