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Run-to-run critical dimension and sidewall angle lithography control using the PROLITH simulator
von
Chemali, C.E.
,
Freudenberg, J.
,
Hankinson, M.
,
Bendik, J.J.
Veröffentlicht in
IEEE transactions on semiconductor manufacturing
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Critical dimension control of a plasma etch process by integrating feedforward and feedback run-to-run control
von
El Chemali, Chadi
,
Freudenberg, Jim
,
Hankinson, Matt
,
Collison, Wenli
,
Ni, Tom
Veröffentlicht in
Journal of Vacuum Science & Technology B: Microelectronics and Nanometer Structures
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3
Multizone uniformity control of a chemical mechanical polishing process utilizing a pre- and postmeasurement strategy
von
El Chemali, Chadi
,
Moyne, James
,
Khan, Kareemullah
,
Nadeau, Rock
,
Smith, Paul
,
Colt, John
,
Chapple-Sokol, Jonathan
,
Parikh, Tarun
Veröffentlicht in
Journal of Vacuum Science & Technology A: Vacuum, Surfaces, and Films
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4
Yield improvement at the contact process through run-to-run control
von
Khan, K.
,
El Chemali, C.
,
Moyne, J.
,
Chapple-Sokol, J.
,
Nadeau, R.
,
Smith, P.
,
Colt, J.
,
Parikh, T.
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Journal Of Vacuum Science & Technology A: Vacuum, Surfaces, And Films
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Journal Of Vacuum Science & Technology B: Microelectronics And Nanometer Structures
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Journal Of Vacuum Science & Technology B: Microelectronics And Nanometer Structures Processing, Measurement, And Phenomena
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Journal Of Vacuum Science & Technology. B, Microelectronics And Nanometer Structures Processing, Measurement And Phenomena
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Ieee Electronic Library (Iel) Conference Proceedings
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Ieee Power & Energy Library
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Ingentaconnect
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