Suchergebnisse - Duecsoe Csaba | OPAC THWS

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Fine-tuning of gas sensitivity by modification of nano-crystalline WO3 layer morphology von Takács, Máté, Dücső, Csaba, Pap, Andrea Edit

Veröffentlicht in Sensors and actuators. B, Chemical

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2

MICRO HEATER FOR EVEN SURFACE TEMPERATURE von Duecsoe, Csaba, Biro, Ferenc, Deak, Andras, Hajnal, Zoltan

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Wide spectrum, semi conductor based infrared light source, optimized for mobil spectroscopy von Szuhacs Janos, Reti Istvan, Nadas Jozsef, Rakovics Vilmos, Kulinyi Sandor, Duecsoe Csaba

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ELASTIC COVERING FOR TACTILE SENSORS AND TACTILE SENSOR ARRAY WITH ELASTIC COVERING von VASARHELYI, GABOR, DUECSOE, CSABA, KIS, ATTILA, FODOR, BALAZS

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ELASTIC COVER FOR TACTILE SENSORS AND TACTILE SENSING ARRANGEMENT WITH ELASTIC COVER von DUECSOE CSABA, FODOR BALAZS, KIS ATTILA, VASARHELYI GABOR

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ELASTIC COVERING FOR TACTILE SENSORS AND TACTILE SENSOR ARRAY WITH ELASTIC COVERING von VASARHELYI, GABOR, DUECSOE, CSABA, KIS, ATTILA, FODOR, BALAZS

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MONOLITHICALLY INTEGRATED MONOCRYSTALLINE MICROMECHANICAL ELEMENTS von DUECSOE, CSABA, EROES, MAGDOLNA, ADAM, ANTALNE, MOHACSY, TIBOR, VAZSONYI, EVA, BARSONY, ISTVAN, PAYER, KAROLYNE

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METHOD FOR PRODUCING MICROMECHANICAL ELEMENTS CAN BE INTEGRATED INTO CMOS TECHNOLOGY, CARRYING MONOLITH SI AND MONOLITH SIO PRODUCED BY POROUS SI MICROMANUFACTURING PROCESS von VAZSONYI EVA, ADAM ANTALNE, DUECSOE CSABA, PAYER KAROLYNE, MOHACSY TIBOR, BARSONY ISTVAN, EROES MAGDOLNA

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CMOS INTEGRATED PROCESS FOR FABRICATING MONOCRYSTALLINE SILICON MICROMECHANICAL ELEMENTS BY POROUS SILICON MICROMACHINING AND SENSOR CHIP COMPRISING SUCH ELEMENT von DUECSOE, CSABA, EROES, MAGDOLNA, ADAM, ANTALNE, MOHACSY, TIBOR, VAZSONYI, EVA, BARSONY, ISTVAN, PAYER, KAROLYNE

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10

CMOS INTEGRATED PROCESS FOR FABRICATING MONOCRYSTALLINE SILICON von DUECSOE, CSABA, EROES, MAGDOLNA, ADAM, ANTALNE, MOHACSY, TIBOR, VAZSONYI, EVA, BARSONY, ISTVAN, PAYER, KAROLYNE

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