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Roughening in Plasma Etch Fronts of Si(100)
Veröffentlicht in Physical review letters
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Substrate-Independent Palladium Atomic Layer Deposition
Veröffentlicht in Chemical vapor deposition
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Morphology transition during low-pressure chemical vapor deposition
Veröffentlicht in Physical review letters
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Mechanisms for plasma and reactive ion etch-front roughening
Veröffentlicht in Physical review. B, Condensed matter
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Surface roughening in low-pressure chemical vapor deposition
Veröffentlicht in Physical review. B, Condensed matter
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Reflection high-energy electron diffraction from carbon nanotubes
Veröffentlicht in Physical review. B, Condensed matter
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An Analytical Derivation of the Signal-in-Space Root-Mean-Square User Range Error
Veröffentlicht in Navigation (Washington)
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