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    METHOD FOR LOCAL MODIFICATION OF ETCHING RESISTANCE IN A SILICON LAYER, USE OF THIS METHOD IN THE PRODUCTION OF PASSIVATING CONTACT SOLAR CELLS AND THUS-CREATED SOLAR CELL

    METHOD FOR LOCAL MODIFICATION OF ETCHING RESISTANCE IN A SILICON LAYER, USE OF THIS METHOD IN THE PRODUCTION OF PASSIVATING CONTACT SOLAR CELLS AND THUS-CREATED SOLAR CELL von Dr. Buchholz, Florian, Dr. Mihailetchi, Valentin Dan, Dr. Hoß, Jan, Dr. Chu, Haifeng, Lossen, Jan

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    Verfahren zur Herstellung eines passivierten, Bor-dotierten Bereichs

    Verfahren zur Herstellung eines passivierten, Bor-dotierten Bereichs von Kopecek, Radovan, Dr, Mihailetchi, Valentin Dan, Dr, Harney, Rudolf, Wefringhaus, Eckard, Dr, Jourdan, Johann

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