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1
Substrate Trenching Mechanism during Plasma and Magnetically Enhanced Polysilicon Etching
von
Van Nguyen, Son
,
Dobuzinsky, Dave
,
Stiffler, Scott R.
,
Chrisman, Greg
Veröffentlicht in
Journal of the Electrochemical Society
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SELF-MATCHING CONTACT POINT PROCESS IN SEMICONDUCTOR MANUFACTURE, IMPROVING METHOD FOR STANDARD SELF- MATCHING CONTACT POINT SEMICONDUCTOR MANUFACTURE PROCESS AND SELF-MATCHING CON...
von
WITTMANN JUERGEN
,
DOBUZINSKY DAVE
,
WOLFGANG BERGNER
,
BRUNO SPULER
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Method of making a self-aligned contact
von
DOBUZINSKY, DAVE
,
SPULER, BRUNO
,
BERGNER, WOLFGANG
,
WITTMANN, JUERGEN
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Method of making a self-aligned contact
von
DOBUZINSKY, DAVE
,
SPULER, BRUNO
,
BERGNER, WOLFGANG
,
WITTMANN, JUERGEN
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A METHOD OF FORMING WIRES ON AN INTEGRATED CIRCUIT CHIP
von
OTANI, YOICHI
,
DOBUZINSKY, DAVE
,
SARDESAI, VIRAJ
,
RUPP, THOMAS
,
CLEVENGER, LAWRENCE
,
COSTRINI, GREG
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A METHOD OF FORMING WIRES ON AN INTEGRATED CIRCUIT CHIP
von
OTANI, YOICHI
,
DOBUZINSKY, DAVE
,
SARDESAI, VIRAJ
,
RUPP, THOMAS
,
CLEVENGER, LAWRENCE
,
COSTRINI, GREG
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Method of forming wires on an integrated circuit chip
von
DOBUZINSKY DAVE
,
CLEVENGER LAWRENCE
,
RUPP THOMAS
,
SARDESAI VIRAJ
,
OTANI YOICHI
,
COSTRINI GREG
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A METHOD OF FORMING WIRES ON AN INTEGRATED CIRCUIT CHIP
von
OTANI, YOICHI
,
DOBUZINSKY, DAVE
,
SARDESAI, VIRAJ
,
RUPP, THOMAS
,
CLEVENGER, LAWRENCE
,
COSTRINI, GREG
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Reduction of black silicon in semiconductor fabrication
von
PERNG, DUNGING
,
WISE, RICHARD S
,
DOBUZINSKY, DAVE M
,
WANG, TING-HAO
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Esp@Cenet
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