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High selectivity Inductively Coupled Plasma etching of GaAs over InGaP
Veröffentlicht in Applied surface science
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Selective dry etching of InGaP over GaAs in inductively coupled plasmas
Veröffentlicht in Journal of electronic materials
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ChemInform Abstract: GaAs/InGaP Selective Etching in BCl 3 /SF 6 High‐Density Plasmas
Veröffentlicht in ChemInform
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ChemInform Abstract: GaAs/InGaP Selective Etching in BCl3/SF6 High-Density Plasmas
Veröffentlicht in ChemInform
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Diffraction properties of a reflection photorefractive hologram: comments
Veröffentlicht in Applied Optics
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