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    Computational proximity lithography with extreme ultraviolet radiation

    Computational proximity lithography with extreme ultraviolet radiation von Deuter, Valerie, Grochowicz, Maciej, Brose, Sascha, Biller, Jan, Danylyuk, Serhiy, Taubner, Thomas, Siemion, Agnieszka, Grützmacher, Detlev, Juschkin, Larissa

    Veröffentlicht in Optics express

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