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Dry etched SiO2 Mask for HgCdTe Etching Process
Veröffentlicht in Journal of electronic materials
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Minimization of dry etch damage in III-V semiconductors
Veröffentlicht in Journal of physics. D, Applied physics
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Studies of damage in low-power reactive-ion etching of III–V semiconductors
Veröffentlicht in Journal of applied physics
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Design considerations for low damage process plasmas
Veröffentlicht in Microelectronic engineering
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Enhanced damage due to light in low-damage reactive-ion etching processes
Veröffentlicht in Applied physics letters
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Contribution of atomic and molecular ions to dry-etch damage
Veröffentlicht in Applied physics letters
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L-Selenocystine induce HepG2 cells apoptosis through ROS-mediated signaling pathways
Veröffentlicht in Biocell
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