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Growth of GaN/AlGaN on 200 mm diameter silicon (111) wafers by MOCVD
Veröffentlicht in Physica status solidi. C
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Solid phase epitaxy of amorphous Ge films deposited by PECVD
Veröffentlicht in Journal of crystal growth
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A micro-electro-mechanical accelerometer based on gallium nitride on silicon
Veröffentlicht in Applied physics letters
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Surface recombination velocity in GaAs and In0.15Ga0.85As thin films
Veröffentlicht in Applied physics letters
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AlGaN Channel High Electron Mobility Transistors with Regrown Ohmic Contacts
Veröffentlicht in Electronics (Basel)
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GaN-on-Si HEMT stress under high electric field condition
Veröffentlicht in Physica status solidi. C
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