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Degradation of a tantalum filament during the hot-wire CVD of silicon nitride thin films
Veröffentlicht in Thin solid films
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A study of the NiSi to NiSi2 transition in the Ni-Si binary system
Veröffentlicht in Thin solid films
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Growth kinetics of nc-Si:H deposited at 200 °C by hot-wire chemical vapour deposition
Veröffentlicht in Thin solid films
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Thermal stability of hot-wire deposited amorphous silicon
Veröffentlicht in Thin solid films
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