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Ion sputter-deposition and in-air crystallisation of Cr2AlC films
Veröffentlicht in Vacuum
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Ti3SiC2-formation during Ti–C–Si multilayer deposition by magnetron sputtering at 650 °C
Veröffentlicht in Vacuum
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Amorphous Boron containing silicon carbo-nitrides created by ion sputtering
Veröffentlicht in Surface & coatings technology
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Much ado about nothing: A brief history of the journal Vacuum
Veröffentlicht in Vacuum
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Study of nanocrystalline TiN/Si3N4 thin films deposited using a dual ion beam method
Veröffentlicht in Thin solid films
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Ion assisted deposition of titanium chromium nitride
Veröffentlicht in Thin solid films
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Semiconducting amorphous FeSi2 layers synthesized by co-sputter deposition
Veröffentlicht in Thin solid films
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Mass dependence of sputtering characteristics for a number of metals with different properties
Veröffentlicht in Vacuum
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