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N‐polar deep‐recess GaN MISHEMT with enhanced ft·LG by gate dielectric thinning
Veröffentlicht in Electronics letters
VolltextArtikel -
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HfO2 as gate insulator on N-polar GaN-AlGaN heterostructures
Veröffentlicht in Semiconductor science and technology
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N‐polar deep‐recess GaN MISHEMT with enhanced f t ·L G by gate dielectric thinning
Veröffentlicht in Electronics letters
VolltextArtikel -
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First Demonstration of an N-Polar InAlGaN/GaN HEMT
Veröffentlicht in IEEE electron device letters
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HfO 2 as gate insulator on N-polar GaN-AlGaN heterostructures
Veröffentlicht in Semiconductor science and technology
VolltextArtikel -
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