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Superior ArF PR etching selectivity and via CD control using fluorocarbon polymer deposition technique for 45nm-node
von
Jong-Jin Park
,
Se-Il Sohn
,
Kwang-Ho En
,
Han-Ki Seo
,
Min-Chul Chae
,
Byoung-Goo Jeon
,
Sung-il Kim
,
Young-Wook Park
,
Chil-Ki Lee
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INTELLIGENT FACE DETECTION METHOD INDEPENDENT ON EXPRESSION VARIATION AND SURROUNDINGS
von
LEE, CHIL KI
,
KIM, MOON HYUN
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