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    Manufacturability of chemical vapor deposition of copper

    Manufacturability of chemical vapor deposition of copper von NGUYEN, T, CHARNESKI, L. J, SHENG TENG HSU


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    CVD copper thin film deposition by using (1-pentene)Cu(I)(hfac) von Zhuang, W.W., Charneski, L.J., Evans, D.R., Sheng Teng Hsu

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