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Nanometer-scale conversion of Si3N4 to SiOx
Veröffentlicht in Applied physics letters
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Structure and thermal stability of MOCVD ZrO2 films on Si (100)
Veröffentlicht in Journal of crystal growth
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A one-step single-cleaning solution for CMOS processes
Veröffentlicht in Journal of the Electrochemical Society
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Local electric-field-induced oxidation of titanium nitride films
Veröffentlicht in Applied physics letters
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