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Electrical Characteristics of MOS Capacitors with HfTiON as Gate Dielectric
von
Chen, Weibing
,
Xu, Jingping
,
Lai, Puito
,
Li, Yanping
,
Xu, Shengguo
,
Chan, Chulok
Veröffentlicht in
Journal of Wuhan University of Technology. Materials science edition
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