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    Distortion and overlay performance of UV step and repeat imprint lithography

    Distortion and overlay performance of UV step and repeat imprint lithography von Choi, Jin, Nordquist, Kevin, Cherala, Ashuman, Casoose, Lester, Gehoski, Kathy, Dauksher, William J., Sreenivasan, S.V., Resnick, Douglas J.

    Veröffentlicht in Microelectronic engineering

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