-
1
Atomic Layer Deposition of NiO by the Ni(thd)2/H2O Precursor Combination
Veröffentlicht in Chemical vapor deposition
VolltextArtikel -
2
Phase stability and oxygen doping in the Cu–N–O system
Veröffentlicht in Journal of crystal growth
VolltextArtikel -
3
-
4
-
5
-
6
Gas-Pulsed CVD for Film Growth in the CuNiN System
Veröffentlicht in Chemical vapor deposition
VolltextArtikel -
7
-
8
Growth and stability of CVD Ni3N and ALD NiO dual layers
Veröffentlicht in Surface & coatings technology
VolltextArtikel -
9
Atomic Layer Epitaxy of Copper on Tantalum
Veröffentlicht in Chemical vapor deposition
VolltextArtikel -
10
-
11
Atomic Layer Deposition of NiO by the Ni(thd) 2 /H 2 O Precursor Combination
Veröffentlicht in Chemical vapor deposition
VolltextArtikel -
12
-
13
-
14
Epitaxy of copper on α-Al2O3(001) by atomic layer deposition
Veröffentlicht in Journal of crystal growth
VolltextArtikel -
15
-
16
Chemical vapour deposition of Cu2O and CuO from CuI and O2 or N2O
Veröffentlicht in Surface & coatings technology
VolltextArtikel -
17
-
18
-
19
Chemical vapour deposition of TiO and Ti2O3 from TiCl4/H2/CO2 gas mixtures
Veröffentlicht in Surface & coatings technology
VolltextArtikel -
20