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Characterization of oxide layers on GaAs substrates
Veröffentlicht in Thin solid films
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Real-time control of layer thickness in LPCVD Si/Si. 88Ge. 12 HBT structures
Veröffentlicht in Thin solid films
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In situ optical monitoring for SiGe epitaxy
Veröffentlicht in Journal of crystal growth
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Real-time control of layer thickness in LPCVD Si/Si.88Ge.12 HBT structures
Veröffentlicht in Thin solid films
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The surface roughness and optical properties of high quality Si epitaxial layers
Veröffentlicht in Thin solid films
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Spectroscopic ellipsometry of Si1-xGex multi-quantum wells
Veröffentlicht in Superlattices and microstructures
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