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    Design Consideration for Immersion 193: Embedded Barrier Layer and Pattern Collapse Margin

    Design Consideration for Immersion 193: Embedded Barrier Layer and Pattern Collapse Margin von Wang, Deyan, Caporale, Stefan, Audes, Cecily, Cheon, Kap-Soo, Xu, Cheng Bai, Trefonas, Peter, Barclay, George


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    A Novel Platform for Production-worthy ArF Resist

    A Novel Platform for Production-worthy ArF Resist von Kim, Hyun-Woo, Choi, Sang-Jun, Jung, Dong-Won, Lee, Sook, Lee, Sung-Ho, Kang, Yool, Woo, Sang-Gyun, Moon, Joo-Tae, Kavanagh, Robert, Barclay, George, Orsula, George, Mattia, Joe, Caporale, Stefan, Adams, Tim, Tanaka, Tsutomu, Kang, Doris


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    Design Consideration for Immersion 193

    Design Consideration for Immersion 193 von Wang, Deyan, Caporale, Stefan, Audes, Cecily, Cheon, Kap-Soo, Bai Xu, Cheng, Trefonas, Peter, Barclay, George


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    Process for immersion lithography

    Process for immersion lithography von Caporale, Stefan J, Jia, Li, Barclay, George G, Wang, Deyan

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    Photoresists and methods for use thereof

    Photoresists and methods for use thereof von Caporale Stefan J, Pohlers Gerd

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    PHOTORESISTS AND METHODS FOR USE THEREOF

    PHOTORESISTS AND METHODS FOR USE THEREOF von CAPORALE STEFAN J, POHLERS GERD

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    Photoresists and methods for use thereof

    Photoresists and methods for use thereof von POHLERS, GERHARD, CAPORALE, STEFAN J

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    PATTERN FORMATION METHODS

    PATTERN FORMATION METHODS von Caporale, Stefan J, Andes, Cecily, DeSISTO, Jason A, Lee, Choong-Bong, Park, Jong Keun, Liu, Cong, Xu, Cheng-Bai

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    Compositions and processes for immersion lithography

    Compositions and processes for immersion lithography von BARCLAY, GEORGE G, JIA, LI, CAPORALE, STEFAN J, WANG, DEYAN

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    Photoresist overcoat compositions

    Photoresist overcoat compositions von DeSisto Jason A, Liu Cong, Park Jong Keun, Caporale Stefan J, Xu Cheng-Bai, Lee Choong-Bong, Andes Cecily

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    Compositions and processes for immersion lithography

    Compositions and processes for immersion lithography von WANG DEYAN, CAPORALE STEFAN J, JIA LI, BARCLAY GEORGE G

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    Photoresists and methods for use thereof

    Photoresists and methods for use thereof von POHLERS, GERD, CAPORALE, STEFAN J

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    Novel polymers and photoresist compositions comprising same

    Novel polymers and photoresist compositions comprising same von Barclay, George, Caporale, Stefan

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    PATTERN FORMATION METHODS

    PATTERN FORMATION METHODS von DESISTO JASON A, CAPORALE STEFAN J, PARK JONG KEUN, LIU CONG, XU CHENG-BAI, LEE CHOONG-BONG, ANDES CECILY

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    PHOTORESIST OVERCOAT COMPOSITIONS

    PHOTORESIST OVERCOAT COMPOSITIONS von DESISTO JASON A, CAPORALE STEFAN J, PARK JONG KEUN, LIU CONG, XU CHENG-BAI, LEE CHOONG-BONG, ANDES CECILY

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    COMPOSITIONS AND PROCESSES FOR IMMERSION LITHOGRAPHY

    COMPOSITIONS AND PROCESSES FOR IMMERSION LITHOGRAPHY von WANG DEYAN, CAPORALE STEFAN J, JIA LI, BARCLAY GEORGE G

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    COMPOSITION AND METHOD FOR IMMERSION LITHOGRAPHY

    COMPOSITION AND METHOD FOR IMMERSION LITHOGRAPHY von WANG DEYAN, CAPORALE STEFAN J, JIA LI, BARCLAY GEORGE G

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    Photoresists and methods for use thereof

    Photoresists and methods for use thereof von POHLERS, GERD, CAPORALE, STEFAN J

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    DIELECTRIC MATERIALS

    DIELECTRIC MATERIALS von GILMORE CHRISTOPHER D, BU LUJIA, CAPORALE STEFAN J, CHUANG PENG-WEI, O'CONNELL KATHLEEN M, KIM YOUNG SEOK, KIARIE CECILIA WAITHERA

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    Photoresists and methods for use thereof

    Photoresists and methods for use thereof von CAPORALE STEFAN J, POHLERS GERHARD

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