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Characterization of Plasma‐Deposited Silicon Dioxide
Veröffentlicht in Journal of the Electrochemical Society
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The Deposition of Silicon Dioxide Films at Reduced Pressure
Veröffentlicht in Journal of the Electrochemical Society
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Planarization of Phosphorus‐Doped Silicon Dioxide
Veröffentlicht in Journal of the Electrochemical Society
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The Chemical Deposition of Boron‐Nitrogen Films
Veröffentlicht in Journal of the Electrochemical Society
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Edge Profiles in the Plasma Etching of Polycrystalline Silicon
Veröffentlicht in Journal of the Electrochemical Society
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Silicide formation with codeposited titanium-tantalum alloys on silicon
Veröffentlicht in Journal of applied physics
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Selective molybdenum deposition by LPCVD
Veröffentlicht in Journal of the Electrochemical Society
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Reaction kinetics of tungsten thin films on silicon (100) surfaces
Veröffentlicht in Journal of applied physics
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Decorated Dislocations in LiNbO3 and LiTaO3
Veröffentlicht in Journal of applied physics
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Domain Structure and Curie Temperature of Single-Crystal Lithium Tantalate
Veröffentlicht in Journal of applied physics
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Domain Wall Dislocation Interactions in RbFeF3
Veröffentlicht in Journal of applied physics
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Some properties of the A-15 phase in the V-Ga system
Veröffentlicht in The Journal of physics and chemistry of solids
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Reaction Kinetics of W Thin Films on Si(100) Surfaces
Veröffentlicht in Journal of applied physics
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