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ELECTRON BEAM APPARATUS
von
HOHN, FRITZ-JURGEN
,
CHANG, TAI-HON PHILIP
,
COANE, PHILIP JAMES
,
KERN, DIETER PAUL
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ELECTRON BEAM APPARATUS
von
HOHN, FRITZ-JURGEN
,
CHANG, TAI-HON PHILIP
,
COANE, PHILIP JAMES
,
KERN, DIETER PAUL
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Electron beam apparatus
von
HOHN, FRITZ-JURGEN
,
CHANG, TAI-HON PHILIP
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COANE, PHILIP JAMES
,
KERN, DIETER PAUL
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4
INSPECTION OF UNSINTERED SINGLE LAYER OR MULTILAYER CERAMICS USING A BROAD AREA ELECTRICAL CONTACTING STRUCTURE
von
MOLZEN, WALTER WILLIAM, JR
,
HOHN, FRITZ-JURGEN
,
CHANG, TAI-HON PHILIP
,
COANE, PHILIP JAMES
,
ZINGHER, ARTHUR RICHARD
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5
Inspection of unsintered single layer or multilayer ceramics using a broad area electrical contacting structure
von
MOLZEN, WALTER WILLIAM, JR
,
HOHN, FRITZ-JURGEN
,
CHANG, TAI-HON PHILIP
,
COANE, PHILIP JAMES
,
ZINGHER, ARTHUR RICHARD
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6
A scaled 0.25- mu m bipolar technology using full e-beam lithography
von
Cressler, J.D.
,
Warnock, J.
,
Coane, P.J.
,
Chiong, K.N.
,
Rothwell, M.E.
,
Jenkins, K.A.
,
Burghartz, J.N.
,
Petrillo, E.J.
,
Mazzeo, N.J.
,
Megdanis, A.C.
,
Hohn, F.J.
,
Thomson, M.G.
,
Sun, J.Y.-C.
,
Tang, D.D.
Veröffentlicht in
IEEE electron device letters
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