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METHODS FOR IN-SITU CHAMBER DRY CLEAN IN PHOTOMASK PLASMA ETCHING PROCESSING CHAMBER
von
CHANDRAHOOD MADHAVI
,
CHEN XIAOYI
,
YU KEVEN
,
SABHARWAL AMITABH
,
KUMAR AJAY
,
GRIMBERGEN MICHAEL
,
MAO ZHIGANG
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METHODS AND APPARATUS FOR IN-SITU CHAMBER DRY CLEAN DURING PHOTOMASK PLASMA ETCHING
von
GRIMBERGEN, MICHAEL
,
BIVENS, DARIN
,
MAO, ZHIGANG
,
KNICK, DAVID
,
KUMAR, AJAY
,
CHANDRAHOOD, MADHAVI
,
IBRAHIM, IBRAHIM
,
CHEN, XIAOYI
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METHODS AND APPARATUS FOR IN-SITU CHAMBER DRY CLEAN DURING PHOTOMASK PLASMA ETCHING
von
KNICK DAVID
,
CHANDRAHOOD MADHAVI
,
BIVENS DARIN
,
IBRAHIM IBRAHIM
,
CHEN XIAOYI
,
KUMAR AJAY
,
GRIMBERGEN MICHAEL
,
MAO ZHIGANG
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METHODS AND APPARATUS FOR IN-SITU CHAMBER DRY CLEAN DURING PHOTOMASK PLASMA ETCHING
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GRIMBERGEN, MICHAEL
,
BIVENS, DARIN
,
MAO, ZHIGANG
,
KNICK, DAVID
,
KUMAR, AJAY
,
CHANDRAHOOD, MADHAVI
,
IBRAHIM, IBRAHIM
,
CHEN, XIAOYI
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Methods and apparatus for in-situ chamber dry clean during photomask plasma etching
von
KNICK DAVID
,
CHANDRAHOOD MADHAVI
,
BIVENS DARIN
,
IBRAHIM IBRAHIM
,
CHEN XIAOYI
,
KUMAR AJAY
,
GRIMBERGEN MICHAEL
,
MAO ZHIGANG
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METHODS AND APPARATUS FOR IN-SITU CHAMBER DRY CLEAN DURING PHOTOMASK PLASMA ETCHING
von
KNICK DAVID
,
CHANDRAHOOD MADHAVI
,
BIVENS DARIN
,
IBRAHIM IBRAHIM
,
CHEN XIAOYI
,
KUMAR AJAY
,
GRIMBERGEN MICHAEL
,
MAO ZHIGANG
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Esp@Cenet
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