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    The interfacial layer formation of the Al2O3/Si structures grown by low-pressure metalorganic chemical vapor deposition

    The interfacial layer formation of the Al2O3/Si structures grown by low-pressure metalorganic chemical vapor deposition von KIM, T. W, KANG, W. N, YOON, Y. S, YOM, S. S, LEE, J. Y, CHAEYON KIM, LIM, H, PARK, H. L

    Veröffentlicht in Journal of applied physics

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