-
1
-
2
-
3
Pattern Transfer of Sub-10 nm Features via Tin-Containing Block Copolymers
Veröffentlicht in ACS macro letters
VolltextArtikel -
4
Interfacial Design for Block Copolymer Thin Films
Veröffentlicht in Chemistry of materials
VolltextArtikel -
5
-
6
Block Copolymers for DSA in the 100 Å Regime
Veröffentlicht in Journal of Photopolymer Science and Technology
VolltextArtikel -
7
-
8
Quantifying the Interface Energy of Block Copolymer Top Coats
Veröffentlicht in ACS macro letters
VolltextArtikel -
9
Design of high‐χ block copolymers for lithography
Veröffentlicht in Journal of polymer science. Part A, Polymer chemistry
VolltextArtikel -
10
Photopatternable Interfaces for Block Copolymer Lithography
Veröffentlicht in ACS macro letters
VolltextArtikel -
11
Block Copolymers for DSA in the 100 ^|^Aring; Regime
Veröffentlicht in Journal of photopolymer science and technology
VolltextArtikel -
12
Block Copolymers for DSA in the 100 Aa Regime
Veröffentlicht in Journal of photopolymer science and technology
VolltextArtikel -
13
-
14
-
15
-
16
-
17
-
18
-
19
-
20