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Metallized photoresists: A new approach to surface imaging
Veröffentlicht in Microelectronic engineering
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Photochemistry of phenothiazine sensitizers in poly(methyl methacrylate) films
Veröffentlicht in Macromolecules
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Process enhancements for positive tone silylation
Veröffentlicht in Microelectronic engineering
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Sub-0.5 micron lithography with i-line acid-hardened negative resists
Veröffentlicht in Microelectronic engineering
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