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CVD tantalum compounds for FET gate electrodes
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NARAYANAN VIJAY,MCFEELY FENTON,MILKOVE KEITH RAYMOND,YURKAS JOHN JACOB,COPEL MATTHEW WARREN,JAMISONPAUL CHARLES,CARRUTHERS ROY,CABRAL JNR CYRIL,SIKORSKI EDMUND,DUCH ELIZABETH,CALLEGARI ALESSANDRO,ZAF
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ZAFAR SUFI
,
MILKOVE KEITH RAYMOND
,
NARAYANAN VIJAY
,
DUCH ELIZABETH
,
NAKAMURA KAZUHITO
,
SIKORSKI EDMUND
,
CABRAL JNR CYRIL
,
CALLEGARI ALESSANDRO
,
MCFEELY FENTON
,
COPEL MATTHEW WARREN
,
CARRUTHERS ROY
,
JAMISON PAUL CHARLES
,
YURKAS JOHN JACOB
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,
YURKAS, JOHN, JACOB
,
MILKOVE, KEITH, RAYMOND
,
NAKAMURA, KAZUHITO
,
DUCH, ELIZABETH
,
CALLEGARI, ALESSANDRO
,
NARAYANAN, VIJAY
,
MCFEELY, FENTON
,
SIKORSKI, EDMUND
,
COPEL, MATTHEW, WARREN
,
CARRUTHERS, ROY
,
JAMISON, PAUL, CHARLES
,
CABRAL JNR, CYRIL
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,
YURKAS, JOHN, JACOB
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