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Observation of Metal-Layer Stress on Si Nanowires in Gate-All-Around High- \kappa/Metal-Gate Device Structures
von
Singh, N.
,
Fang, W.W.
,
Rustagi, S.C.
,
Budharaju, K.D.
,
Teo, S.H.G.
,
Mohanraj, S.
,
Lo, G.Q.
,
Balasubramanian, N.
,
Kwong, D.-L.
Veröffentlicht in
IEEE electron device letters
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von
Singh, N
,
Fang, W.W
,
Rustagi, S.C
,
Budharaju, K.D
,
Teo, S.H.G
,
Mohanraj, S
,
Lo, G.Q
,
Balasubramanian, N
,
Kwong, D.-L
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