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Diagnostics for plasma processing (etching plasmas) (invited)
Veröffentlicht in Review of Scientific Instruments
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Ion cyclotron wave effects on the ion velocity distribution in a tandem mirror
Veröffentlicht in Nuclear fusion
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Does high density–low pressure etching depend on the type of plasma source?
Veröffentlicht in Physics of plasmas
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rf Stabilisation of an axisymmetric tandem mirror
Veröffentlicht in Physical review letters
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Plasma heating at twice the ion cyclotron frequency in a quadrupole minimum-|B| mirror
Veröffentlicht in Nuclear fusion
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Laser‐induced fluorescence measurement of the dynamics of a pulsed planar sheath
Veröffentlicht in Physics of plasmas
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Observation of Macroscopic Stability Limits in a Tandem Mirror
Veröffentlicht in Physical review letters
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Dynamic Electrostatic Confinement in an rf-Sustained Tandem Mirror
Veröffentlicht in Physical review letters
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Fast ion beam–plasma interaction system
Veröffentlicht in Review of scientific instruments
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Surface multipole guide field for plasma injection
Veröffentlicht in Review of scientific instruments
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